Optical and structural properties of silicon oxynitride deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition - Université Claude Bernard Lyon 1 Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2010

Optical and structural properties of silicon oxynitride deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

J. Dupuis
  • Fonction : Auteur
E. Fourmond
N. Bererd
  • Fonction : Auteur
ACE
M. Lemiti

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in2p3-00734027 , version 1 (10-01-2019)

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Citer

J. Dupuis, E. Fourmond, D. Ballutaud, N. Bererd, M. Lemiti. Optical and structural properties of silicon oxynitride deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition. Thin Solid Films, 2010, 519, pp.1325-1333. ⟨10.1016/j.tsf.2010.09.036⟩. ⟨in2p3-00734027⟩
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